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Semiconductor Engineering – 7 Oct 26 Hyper-NA EUV: The Next Extension Beyond High NA Lithography (Carl Zeiss, ASML) Researchers at Carl Zeiss SMT and ASML published a technical paper titled “Hyper-NA: a system with a numerical aperture of at least 0.75.” Abstract Summary: The researchers examine Hyper-NA EUV lithography with a numerical aperture of at least 0.75... Est. reading time: 1 minute [!quote]+ 研究人员研究了数值孔径至少为 0.75 的超数值孔径 EUV 光刻技术，将其视为超越当前 0.55-NA 高数值孔径系统的途径，包括光学架构、分辨率潜力、掩模 3D 效应、偏振以及扩展现有 EUV 生态系统的要求。 https://www.spiedigitallibrary.org/journals/journal-of-micro-nanopatterning-materials-and-metrology/volume-25/issue-4/041807/Hyper-NA-a-system-with-a-numerical-aperture-of-at-least-0-75/10.1117%2F1.JMM.25.4.041807.full https://www.reuters.com/business/asml-zeiss-say-next-generation-chipmaking-technology-may-be-ready-10-years-2026-10-08/ [!quote]+ 阿姆斯特丹，10月8日（路透社）——ASML的继任者 （ASML.AS）， 打开新标签页 公司工程师及其光学合作伙伴卡尔·蔡司在一篇同行评审论文中表示，最先进的芯片制造机器大约十年内可完成。 该报称，该工具名为“Hyper NA”，将打印更小的电路，同时重复利用公司现有的大部分技术，尽管挑战依然存在。 这台机器由ASML开始开发，但尚未承诺量产，关系到公司未来前景，也影响其合作伙伴和竞争对手的前景。 ASML未立即发表评论。 1 个帖子 - 1 位参与者 阅读完整话题

  • 情报分类：技术学习与提效
  • 分类依据：内容涉及技术、AI、软件工具或工程实践
  • 信息来源：服务器 / LINUX DO - 最新话题
  • 发布时间：2026/10/9 18:33:40